异质结的构建是提高光催化剂活性最有效的方法之一，而原位合成技术可以在异质结的制备过程中提供最优的界面接触。大连理工大学郭新闻课题组总结了原位合成异质结的常用合成方法、类型和表征技术乃至在光催化领域的应用，同时为该领域未来的研究方向提供了可供参考的意见。

影响半导体材料光催化性能的最主要因素之一是光生载流子分离效率。由于半导体材料中光激发产生的电子和空穴通常寿命极短，在没有驱动力的情况下，只有少量电子和空穴能被有效分离并用于光催化反应，大部分光生载流子则会迅速重组。然而，通过构建异质结可以利用内建电场带来的驱动力实现空间尺度上的电子-空穴分离，有效延长光生载流子的寿命，从而为光催化反应提供更多的有效电荷。

其中，紧密接触的异质结界面是提高光生载流子的分离效率的关键。在两相界面处的原子间形成密切的接触有利于相间电荷转移，减少载流子的重组，从而进一步提高复合材料的催化性能。而原位合成技术，指令材料直接外延生长到载体上的合成策略，确保了在载体表面成核和生长的外延材料和载体之间具有无污染、接触紧密的最佳界面。此外，还能避免纳米颗粒的团聚，保证其均匀分散，并最大程度地保留载体原有结构。同时原位合成方法对工艺流程的简化也与大规模生产的需求相贴合。

基于原位合成在构建异质结催化剂方面的巨大潜力，近年来有关原位合成技术的研究数量显著增加。最近，大连理工大学郭新闻课题组适时地系统总结了异质结光催化剂原位合成领域的最新进展。在对当前原位合成技术进行了列举与分类外，进一步分析了这些技术在提供高质量异质结界面方面的有效性，以及在提高光催化活性方面的巨大潜力。同时，也提出了目前异质结原位合成工作中存在的不足，为今后的相关工作指明了切实可行的研究方向。